技术编号：3346682
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 本发明涉及具有高耐酸性、耐等离子体性和亲水性，作为例如通过气相法对基材或基板进行表面加工处理(微细加工和薄膜加工等)的装置(半导体制造装置、液晶显示装置等显示器件等)的构成构件，有利于长期保持耐酸性、耐等离子体性的耐腐蚀性构件(或改性处理构件)、及其制备方法、以及表面处理方法、由该方法得到的处理构件。 背景技术 在半导体、液晶显示器件等微细加工和薄膜化技术中，可以将基材或基板进行气相表面处理、例如物理气相沉积、化学气相沉积、蚀刻处理等。这些气相表面处...
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