技术编号：33497564
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.一个或多个实施例涉及衬底安装单元及包括其的衬底处理设备，更具体地，涉及用于防止由于高温下室的下垂或变形而导致的处理均匀性恶化的衬底安装单元，以及包括其的衬底处理设备。背景技术.一种用于处理半导体或显示器衬底的衬底处理设备，比如化学气相沉积(cvd)反应器或原子层沉积(ald)反应器，包括气体供应单元、衬底支撑单元、排气单元和其他辅助部件。为了保持平稳的衬底处理和稳定的处理结果，部件需要被正确地放置在反应器内的指定位置。然而，在高温过程中，由于热膨胀或施加到反应器或构成反应器的部件的真空力，...
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