技术编号：3350900
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及薄膜的沉积，特别涉及以参考沉积厚度进行的层的溅射沉积。发明背景溅射沉积被广泛用于沉积薄膜和广范围的装置和器件的制造。溅射沉积尤其用于光 学应用的薄膜装置的制造。这种薄膜装置可以包括单层或多层，多层的范围是从两层到 几千层。这种薄膜装置的光谱性能依赖于它们所包括的层的厚度。因此，具有以参考沉 积厚度来沉积层的能力是非常重要的。典型的賊射沉积系统包括耙阴极、阳极、基底、等离子和电源。靶阴极、阳极、和 基底被置于真空室内，气体被导入该真空室内。电源位于...
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