技术编号：3350970
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是是一种镀膜工艺中的膜厚控制技术，特别涉及的是一种应 用于磁控溅射镀膜中的膜厚修正工艺方法和设备。背景技术随着国家对节能环保的重视程度日益加深，作为建筑行业所选择的建筑材 料也存在的具体的要求，为此大量的建筑物都在使用具有大面积镀膜的玻璃， 其已成为建筑行业的规范之一，而目前比较主流的大面积镀膜工艺为磁控溅射 镀膜工艺。所述的磁控'减射镀膜工艺是70年代后发展起来的新型镀膜工艺，其是通过 电子在电场作用下加速飞向基片的过程中与惰性气体氩原子发生...
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