技术编号:3351095
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。5 本发明涉及等离子体处理装置、电极温度调整装置和电极温度调整方法。背景技术在半导体装置、液晶显示装置等的制造工艺中使用等离子体处理 10 装置,该等离子体处理装置在减压至规定的真空压力的处理室内产生 等离子体,使该等离子体作用于基板,例如半导体晶片、液晶显示装 置用的玻璃基板等,从而进行蚀刻处理、成膜处理等规定的处理。已知多种等离子体处理装置,其中例如以所谓的平行平板型等离 子体处理装置为主流,在该平行平板型等离子体处理装置中,例如在 15处理室内的下部...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。