技术编号:3351269
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种半导体处理用的载置台装置、成膜装置和成膜方 法。这里,作为半导体处理,意味着通过在半导体晶片或者LCD(Liquid crystal display)或FPD (Flat Panel Display)用的玻璃基板等被处理基 板上以规定的图案来形成半导体层、绝缘层、导电层等,为了在该被 处理基板上制造半导体器件或者与半导体器件连接的包含布线、电极 等的构造物而实施的各种处理。背景技术在半导体集成电路的制造中,对半导体晶片等硅基板,重复进行 成膜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。