技术编号：3352383
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空热蒸发装置，尤其是一种用于热蒸镀金属熔液的坩埚。 背景技术蒸镀法是一种属于物理气相沉积的真空镀膜技术。它是将蒸镀的材料置于一个坩 埚之中，通过对坩埚加热，使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚到待 镀膜的基板表面形成薄膜。该技术广泛应用于太阳能电池、半导体晶片、平板显示、光学镜 片等领域。目前，有机电致发光器件作为下一代平板显示的核心技术正受到越来越多的关 注。而器件制备的主要方法就是采用蒸镀法。无论是有机功能层、有机发光层...
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