技术编号:3353163
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种利用多离子束溅射淀积纳米膜(含微米膜)设备,特别涉及制造如薄膜传感器、薄膜集成电路、磁性薄膜器件、高温超导薄膜、光学薄膜、材料改性薄膜等多层薄膜结构改进的多离子束共溅射淀积纳米膜装置,其国际分类应归于C23C14/34。背景技术离子束溅射淀积镀膜技术为科学研究与生产提供了薄膜涂覆的新工艺、新技术,为薄膜传感器、薄膜集成电路、磁性薄膜器件、高温合金导体薄膜、金属异质结构的薄膜制备、材料改性中的薄膜制备等广泛的应用领域提供了新的技术手段。随着...
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