技术编号:3353508
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种导电性复合原子氧防护涂层IT0/MgF2的制备方法,特别是采用磁控溅射法用复合靶制备IT0/MgF2导电性复合涂层来实现基底材料的原子氧防护,属于航空航天。背景技术航天器运行在空间等离子体环境中,其间的原子氧具有很高的能量和通量,并且其化学性质非常活泼。原子氧对航天器表面材料有很强的氧化腐蚀作用,会使结构材料减薄、发生形变、强度下降,改变光学器件的光学性能,使热控涂层的光学性能发生改变,导致热控失效。这些效应显著影响了航天器的工作性能和使用寿...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。