技术编号:3354051
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种离子浓度监控系统。 背景技术在进行真空溅镀时,镀膜腔内的混合气体被放电激发为不同的离子,所述离子与 被镀靶材相互反应以形成镀膜材料附着在被镀物件上。因此,镀膜腔内不同离子的浓度比 例将直接影响到所镀膜层的组分和镀膜的速率。所述混合气体被放电激发时会发出激发光 谱,在发电激发过程中产生的不同离子的浓度分别与所述激发光谱中对应波长的光谱强度 成正比。所以,通过检测混合气体被放电激发时所发出的激发光谱可得知镀膜腔内所述不 同离子的实际浓度比例,从而...
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