技术编号：3355440
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种具有遮蔽框架的化学气相沉积机台，特别涉及一种具有定位 板块的遮蔽框架。背景技术请参照图1A，此图显示了现有技术中使用化学气相沉积法(CVD)于一基板10表面 沉积膜层的情形。其中，为了避免化学气相沉积制程当中所进行的电浆处理，在基板的边缘 IOa造成电弧现象，因此会在基板的四周设置遮蔽框架(Shadow Frame) 12。请参照图1B，此图显示了对基板10进行化学气相沉积时，相关设备的截面图。一 般而言，基板10是放置于一承载台(sta...
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