技术编号:3357151
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空镀膜领域的电动引弧直接冷却式阴极电弧离子源。背景技术在真空镀膜设备上采用阴极电弧离子源进行镀膜,具有膜层沉积速度快,结合力 牢固的特点,为进一步提高膜层结合力,在阴极电弧离子源的设计上需要考虑弧靶靶材表 面的垂直磁场,磁场强度是直接影响膜层结合力的关键因素之一,而目前对此没有很好的 解决办法;另外,镀膜过程中靶材表面温度持续上升,不仅致使镀出的膜层颗粒粗糙,耙材 表面烧蚀不均匀,而且造成真空室及被镀工件超过设定温度的现象。实用新型内容...
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