技术编号：3357529
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种陶瓷抛光机，特别是一种应用于陶瓷抛光机上的磨盘机构。背景技术在现役的陶瓷抛光设备中，磨盘的机构都过于简单，其运动方式是单一级公转带 自转。其结构是使用单主轴经齿轮连接传动五根圆形平均分配的磨片副轴(磨片大小为 IOO匪)。该磨盘在公转方式下运动，通常，磨片与磨片最大直径450匪，最小直径250匪。造 成一个外径为450匪内径为250匪的抛光圈，所以在生产使用时有直径为250匪的位置抛 光效果差，容易产生白边、漏抛、生产效率不高、废品率高等...
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