技术编号:3358812
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及温控调试处理设备,更具体地涉及一种通过输入或输出 热量来实现制热或制冷用的真空热处理腔。背景技术在半导体工业、电子工业及机械工业领域,为了对所使用的元件赋予某种特性,较 常使用的方式是采用“蒸发镀膜处理”在元件表面沉积一层薄膜,特别的是真空蒸发镀膜技 术。真空蒸发镀膜(又称真空蒸镀)是将固体材料置于真空室内,在真空条件下,将固体材 料加热蒸发,蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的薄 型制品放在其中时,蒸发出来的原子...
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