技术编号:3358896
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种密封腔体,尤其涉及一种适用于作为真空蒸镀工艺中的蒸镀 腔室的密封腔体。背景技术在半导体工业、电子工业及机械工业领域,常使用蒸发镀膜处理技术在元器件的 表面沉积一层薄膜,尤其是真空蒸发镀膜技术;真空蒸发镀膜(又称真空蒸镀)是将固体材 料置于真空室内,在真空条件下,将固体材料加热蒸发,蒸发出来的原子或分子能自由地弥 布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时,蒸发出来的原子或分子就会 吸附在基板上逐渐形成一层薄膜,因此,在真空蒸发镀...
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