技术编号:3360198
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是相关于微波辅助旋转物理气相沉积。 背景技术辉光放电薄膜沉积工艺广泛用在产业应用与材料研究,尤其是用在创造新的先进 材料。虽然化学气相沉积(CVD)对在沟槽或孔中沉积材料通常呈现优越性能,物理气相沉 积(PVD)由于其简单性和较低成本而更佳。在PVD中,磁控管溅射常是较佳的,因为其可具 有比非磁控管溅射增加约一百倍的沉积率和降低约一百倍的所需排放压力。惰性气体,尤 其是氩,通常用作溅射剂,因其不与靶材材料反应。当施加负电压至靶材时,正离子,例如, 带...
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