技术编号:3361188
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学机械抛光领域,特别涉及化学机械抛光液回收及重复利用的方法。背景技术化学机械抛光技术是现在使用非常广泛的技术,它所使用的抛光液是最大的消耗 品,例如微电子工艺金属抛光等都只使用一次,成本占此工艺的很大一部分。抛光液一般包 括水、磨料、各种化学试剂,抛光液使用过程中,化学试剂与被抛材料发生反应,生成各种离 子,其中的磨料吸附了一些离子或者有小部分损坏,直到化学试剂反应完或者生成的离子 对被抛材料产生污染,废弃的抛光液一般都中和处理,排到废液池中,...
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