技术编号:3361846
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。蒸发源装置本发明有关于一种线型之双蒸发源装置,特别是关于一种可在大面积的基板制作时,提高镀膜的均勻性及蒸镀材料的利用率的坩锅结构。背景技术蒸镀制程(evaporation process)在半导体组件制作、液晶显示器组件制作或太阳能电池组件制作过程中受到了广泛的使用,为了将制作过程中所使用的蒸镀材料均勻涂布于基板,现有技术中是将基板设置于坩锅的开口上方,再借由加热坩锅使得放置于其内的蒸镀材料蒸发,通过开口而均勻地附着在于基板上,达成均勻涂布的效果。然当基板...
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