技术编号:3361872
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种真空处理装置,在真空处理装置的真空容器内生成等离子体,并产生电中性的激发活性种(在本发明中以“游离基”表示),对配置在该真空容器内的基 板进行处理,例如,进行在基板上形成薄膜的处理、或对形成于基板上的薄膜进行表面处理等。背景技术真空处理装置具有各种各样的用途,所述的真空处理装置,通过在真空处理装置 的真空容器内形成等离子体而产生游离基,对配置在该真空容器内的基板进行处理,例如, 进行在基板上形成薄膜的处理,或者用于改善形成于基板上的薄膜的膜质...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。