技术编号:3362721
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种镀膜伞架,尤其涉及一种由平面载盘构成的镀膜伞架。 背景技术光学薄膜一般采用蒸镀法(Evaporation Deposition)、离子助镀法(Ion Assisteddeposition, IAD)(Ion Beam Sputtering Deposition, IB SD) ii 行镀制。在膜层镀制过程中,通常使用镀膜伞架来承载待镀元件,待镀元件放置于镀膜伞架上,待镀表面朝向设置于镀膜伞架下方的靶材,通过蒸发或离子轰击等方式将靶材材料冲至镀...
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