技术编号:3362921
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及溅射镀膜设备,特别是涉及一种具有交替电磁场的矩形平面 磁控靶结构。背景技术现代薄膜技术经过半个世纪的发展,其应用已遍及国民经济各个领域。高速低温 的溅射镀膜设备已在各个行业中广泛应用,它可以在任何基材上沉积任何镀材的薄膜。目 前市场使用的矩形平面靶,如图1所示,这种靶的磁体采用永磁体(锶铁氧体或铝镍钴等), 矩形平面靶结构简单,通用性强。但实际使用过程中因为磁场分布及水平场强的局限性,如 图2和3所示,靶材利用率极低只有30%左右,极大的浪费了成...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。