技术编号：3363079
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及溅镀，尤其涉及一种混合气体供给系统、一种溅镀装置及一种溅镀方法。背景技术溅镀是利用离子撞击靶材，将靶材内的原子撞出而沉积于基材表面堆积成膜。于溅镀化合物薄膜时，若直接以化合物为靶材，溅镀出的薄膜成份会与靶材成份相差很大，故一般于溅镀化合物薄膜时，通常将反应气体混合于放电气体中，该反应气体与靶材撞击出来的原子进行化学反应，以控制化合物薄膜的组成与性质，此种溅镀方法称为反应性溅镀。于工件表面镀上多层膜可提高工件的表面性能。采用反应性溅镀镀多层膜时需采...
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