技术编号:3363338
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及废弃溅射靶的修复。溅射靶通过用在溅射过程中被损耗的新的溅射材料填充废弃溅射靶中的腐蚀槽进行修复。结果,对废弃的溅射靶进行了再加工。背景技术阴极溅射被广泛用于将薄层材料沉积到需要的基材上。典型的溅射系统包括用于产生电子或者离子束的等离子体源,含有待雾化材料的靶,以及溅射的材料沉积其上的基材。加工过程包括用电子或者离子束在使靶材溅射或者腐蚀脱离靶的角度轰击靶材。溅射的靶材沉积在基材上形成薄膜。最后,在溅射靶中溅射材料损耗处形成腐蚀槽。在很多溅射实施中...
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