技术编号:3363941
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种以反应烧结碳化硅和无压烧结碳化硅反射镜镜坯为衬底的反射 镜,属于材料表面改性领域。背景技术近年来碳化硅(SiC)由于其热变形量低、高比刚度、尺寸稳定性和抗辐射等特性, 特别适合于空间光学系统的应用,如制作各种小型卫星、侦察相机等的反射镜。反应烧结碳 化硅由于成本低和可实现净尺寸烧结而被世界大多数国家广泛用做反射镜镜坯。而无压烧 结碳化硅由于工艺简单、成本低和易获得形状复杂的产品目前也开始受到关注。但是这两 种碳化硅材料用作反射镜镜坯时,由于制...
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