技术编号:3364034
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及化学机械抛光设备,特别涉及一种抛光垫修整头。 背景技术化学机械抛光设备中,抛光垫在使用一段时间后,随着自身的磨损以及磨屑对抛 光垫表面微孔的填充,抛光垫表面变得平滑,形成釉化层,使抛光垫存储、输送磨料的能力 降低,导致材料去除率和抛光表面质量下降。通过修整头上金刚石盘对抛光垫进行适当的 修整,可去除釉化层以及抛光垫上的磨屑,提高抛光垫粗糙度及其使用寿命,降低成本,保 证抛光一致性。修整头带动金刚石盘下压与抛光垫接触,并带动金刚石盘旋转,金刚石盘在...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。