技术编号：3364051
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微纳图形结构，是一种。 背景技术从20世纪以来，微纳图形制造领域取得了长足的发展。图形结构由于具有良好的 增透射性，抗反射性，较宽的光谱响应性以及极性不灵敏性而广泛应用于太阳能电池，光学 器件，液晶显示以及光伏器材上。图形结构一般呈规则排列的金字塔形或者锥形阵列，其性 能由阵列周期和结构单元的深宽比决定，而且也与制造这种结构的材料有关。目前的图形 结构材料有硅，石英，聚合物以及光刻胶等。激光直写技术是指利用强度可变的激光束对基片表面的膜层材料进行...
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