技术编号:3364984
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及镀膜领域,尤其涉及一种。 背景技术化学气相沉积法作为一种镀膜方法,已广泛应用于于工件表面形成镀层。该方法常使用化合物溶液为待镀液体,包括雾化该化合物溶液形成雾滴,加热该雾滴使之于高温下与反应气体反应等步骤。然而,实际生产中,因缺乏对该雾滴浓度的监控,导致后续形成的镀层厚度易不均勻。有鉴于此,提供一种来提高镀层均勻性实为必要。 发明内容一种镀膜装置,包括依序连通的雾化腔、加热腔及镀膜腔,还包括挡板、与该挡板相连的驱动装置、控制装置及用于感测该加热腔...
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