技术编号:3365028
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种坩埚及具有该坩埚的蒸镀设备,尤其涉及一种盛放柱状膜料且可以连续更新膜料的坩埚及具有该坩埚的蒸镀设备。背景技术光学薄膜一般采用蒸镀法(Evaporation Deposition)、离子辅助蒸镀法 (IonAssisted deposition, IAD) , ^!!!!! (Ion Beam Sputtering Deposition, IBSD) 进行镀制。离子辅助蒸镀具有独立的离子源,安装简单,对原系统的影响低,且离子束的范围大,分布均...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。