技术编号:3365370
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体上涉及一种用于在半导体衬底上形成薄层的设备,更具体地说,涉及 一种用于化学气相沉积设备的气体喷射单元。背景技术化学气相沉积设备是这样一种装置,该装置通过气体喷射单元向化学气相沉积设 备的处理室中喷射处理气体而在放置在该处理室内的基座上的半导体衬底上沉积薄层。该 气体喷射单元是用来向位于处理室内的衬底上均勻地喷射处理气体的设备。当气体喷射单元变热到理想处理温度以上时,可能会在气体喷射单元内引起不期 望的化学反应,并引发非计划的反应副产品沉积而吸附在...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。