技术编号:3365906
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种冰冻固结磨料抛光垫,尤其是一种抛光效率高,均勻性好的抛光 垫,具体地说是一咱。背景技术众所周知,传统的CMP (化学机械抛光法)系统是由一个旋转的工件夹持装置、承 载抛光垫的工作台和抛光液(浆料)供给系统三大部分组成。抛光时,旋转的工件以一定的 压力压在随工作台一起旋转的抛光垫上,而由亚微米或纳米磨料和化学液组成的抛光液在 工件与抛光垫之间流动,并在工件表面产生化学反应,工件表面形成的化学反应物由磨粒 的机械摩擦作用去除。由于选用比工件软或者...
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