技术编号：3366311
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施方式主要涉及一种用于物理气相沉积(PVD)的方法和设备，更尤其 涉及一种改进的PVD靶及其操作方法。背景技术平板显示器、太阳能面板和半导体器件的制造依赖于在衬底上沉积金属和非金属 薄膜的方法。PVD为一种所述方法。PVD 一般在高真空腔室中执行并通常包括磁控溅射工艺。通过将靶放置于衬底上 方，在靶和衬底之间导入诸如氩的气体，并利用高电压DC信号激发气体以产生轰击靶的离 子，执行溅射。靶包括待在衬底上沉积为薄膜的材料。由于离子轰击靶，靶原子离开原...
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