技术编号:3367792
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种i^eCoTdr系合金溅射靶材及其制造方法,特别涉及用于制备垂直磁记录媒体的!^CoTdr系合金的软磁性膜的i^eCoTdr系合金溅射靶材及其制造方法。背景技术近年来,为了适应当今信息社会的需要,提高磁记录密度方法-垂直磁记录受到广泛的重视。主要特点是将记录信息的磁化强度从以前的平行于磁记录介质膜面改变为垂直于磁记录介质膜面。这就一方面要求磁记录介质的磁各向异性具有垂直于膜面的易磁化轴,另一方面要求记录磁头的气隙磁场也垂直于磁记录介质的膜面。...
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