技术编号:3368245
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于新能源及太阳电池领域的研究,涉及真空腔室间气氛隔离装置。 背景技术在柔性衬底上进行连续镀膜时,往往需要多个真空腔室进行不同的反应沉积,因此必须有装置将相邻两个反应真空腔室进行隔离,避免不同反应腔室之间的气氛互相污染。尤其是对柔性衬底的硅基薄膜太阳电池,其N型(η型掺杂层)、I型(本征层)、Ρ型 (P型掺杂层)材料在不同的反应室生长,必须保证腔室之间的气体不相互干扰。传统的气体隔离采用的技术有气密封和差分隔离两种技术。气密封技术是利用充气口吹入气体...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。