技术编号:3368414
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体设备,具体地,涉及一种用于PVD工艺的反应腔室和 PVD系统。背景技术物理气相沉积(Physical Vapor D印osition,PVD)系统广泛用于当今的平板显示器等半导体产品的制造工艺中,这种通过电离惰性气体来得到等离子体的技术目前被广泛应用于PVD工艺中。图1为现有用于PVD工艺的反应腔室的结构示意图。如图1所示,现有用于PVD工艺的反应腔室通常包括反应腔室本体101、线圈射频电源102、线圈匹配器103、下电极104、 电感耦合...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。