技术编号:3369221
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种可电解回收的蚀刻溶液,其特别是用于蚀刻印刷电路板和铜与铜合金的成型件,该蚀刻溶液基本上由一定含量的水、氨、硫酸铜、硫酸铵和任选的用以提高蚀刻速度的含钒催化剂组成。背景技术 传统的蚀刻溶液以多种形式和实施方式用于,特别是蚀刻印刷电路板。在制造过程中,加速蚀刻过程也具有很重要的作用,这就要求蚀刻溶液的回收过程也要加快。在一种制备印刷电路板的方法中,利用丝网印刷或利用光学处理方法将电路图涂覆在铜表面上作为光刻胶(Resist)图。然后通过合适的蚀刻...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。