技术编号：33713298
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。用于euv投射曝光系统的光学元件技术领域.本专利申请要求德国专利申请de .的优先权，其内容通过引用并入于此。.本发明涉及一种用于euv投射曝光设备的光学元件。本发明还涉及具有这种光学元件的集光器以及用于生产这种光学元件的中间产品。此外，本发明涉及一种用于制造这种光学元件的方法。背景技术.为了制造用于euv投射曝光设备的光学元件，可以在蚀刻层中引入光栅结构。这种具有限定台阶高度的光栅结构的生产非常复杂。此外，光栅结构的台阶高度可能会发生波动和/或其与指定值的...
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