技术编号：3371436
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。(一) -本发明涉及，特别是一种用于妈的抛 光液及其制备方法。(二) 背景技术钨是半导体集成电路中被广泛应用的一种金属材料，由于金属钩 材料本身特性，及大规模集成电路对表面要求的精度很高，给材料表 面平坦化加工带来了很大难度。目前国际上主要采用酸性抛光液进行 抛光加工，对设备的损害比较严重，而且抛光后清洗难度增加。发明内容本发明的目的在于提供一种用于钨的抛光液及其制备方法，它能 克服现有技术中的清洗缺点，做到高效清洗并对设备没有损害。本发明的技术方案 一种...
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