技术编号:3372149
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及RTC设备领域,特别是涉及一种真空镀膜机的阴极装置。 背景技术目前一般真空镀膜机采用外置式阴极换靶系统,如图1所示,通过氮化硼绝缘圈 卡入陶瓷绝缘圈的方式固定,需要换靶时必须把整个阴极装置从设备上取下才能更换靶 材,并且更换靶材工作也比较繁琐,一般先取下密封圈,再依次取下陶瓷绝缘圈和氮化硼绝 缘圈,然后才能取下靶材。现有的换靶系统换靶耗用时间比较长,一般需要30-40分钟。而 且由于生产工艺需要经常改变,因此更换靶材的频率相当高,频繁的取装阴...
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