技术编号：3373900
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种通过元素混合和热等静压制来制造可延展的金属间溅射靶的方法。背景技术阴极溅射法广泛用于材料薄膜沉积到目标衬底上。典型的溅射系统包括用于产生电子或离子束的等离子体源、包括待雾化的材料的靶、和将溅射材料沉积其上的衬底。该方法基本包括用电子或离子束以某一角度轰击靶材料，这引起靶材料被溅射或从靶上侵蚀掉。被溅射的靶材料作为薄膜或层沉积在衬底上。用于溅射法的靶材料已从纯金属发展到甚至更复杂的合金。溅射工业上通常使用复合的3-6种元素的化合物和极其脆的金属...
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