技术编号:3373991
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种薄膜工艺设备及薄膜制作方法,特别是有关于一种薄膜工艺设备中的供气结构,通过此供气结构的设计,可使薄膜工艺设备中的反应气体均匀混合并且加速完成反应。背景技术随着半导体工艺技术的演进,已有愈来愈多的产品需要使用薄膜工艺设备, 在衬底上成长一层薄膜。然而,目前主要用来成长薄膜的方法有几种,包括蒸镀法 (spattering)、层积法(depositing)及金属有机物化学气相沉积技术(MOCVD)等。特别是在太阳能光电相关产业中,大都使用金属有...
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