技术编号:3374083
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种热处理炉结构,特别是有关于一种于高压环境下执行热处理的热处理炉,使得热处理炉具有气体流动空间(chamber)及反应空间的双空间设计,由对双空间中的相对的密度或压力进行控制,可使得热处理炉反应空间中的反应气体于高压环境下反应时,反应气体混合更为均匀,以利加速完成反应,且生成薄膜膜质更佳,并提升操作安全性。背景技术随化合物薄膜太阳能电池工艺技术的演进,已有愈来愈多的产品需要使用薄膜工艺设备,在基板上成长一层薄膜或薄膜前驱物(Precurso...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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