技术编号:3376867
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种生产半导体晶片的等离子体反应器。背景技术 本申请案是延续部份未定案的美国专利申请案第11/192271号,在2002年7月9日,标题为CAPACITIVELY COUPLED PLASMA REACTORWITH MAGNETIC CONTROL,由Daniel Hoffman等人提出。本申请案也延续关于以下标题的申请案美国专利申请案第09/527,342号,提出于2000年3月17日,标题为PLASMA REACTOR WITHOVER...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。