技术编号:3379621
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种镀膜设备,尤其涉及一种磁控溅射镀膜设备。 背景技术磁控溅射镀膜设备是一种应用极其广泛的真空镀膜设备,被广泛用于工艺美术、 装璜装饰、玩具等领域镀制产品,主要用于在已预处理好的塑料、陶瓷等制品表面镀金属薄膜、仿金膜,从而获得光亮美观、价廉的表面金属化的塑料、陶瓷制品。目前的磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶以及蒸发源都是固定安装在真空室内,对于一些大尺寸、大曲率、异形衬底的基片镀膜具有较大的局限性,在镀膜过程各个镀膜位置与靶的距离差异较大,大尺寸...
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