技术编号：3381153
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种特别是用于将半导体材料外延沉积在基片上的装置的基片支架，该基片支架有一个基片安放面，一个与该安放面相反的保持背面，本发明还涉及一种根据权利要求26前序部分的用于半导体材料沉积的装置。背景技术 本专利申请要求德国专利申请10261362.1-43的优先权，为此，引用纳入这篇德国专利申请的公开内容。这种基片支架被放置在金属有机气相沉积装置(MOVPE)内，为了沉积氮化合物，石墨构成的基片支架具有SiC涂层，该基片放置在SiC涂层上。这一类基片支架...
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