技术编号:3381213
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于金属镀膜领域,尤其涉及一种用于阴极电弧镀膜的磁场调节装置。背景技术在物理气相沉积(PVD)领域通常采用的阴极电弧镀膜,是通过阴极(靶)和阳极(真空室)之间在低电压和高电流的放电过程,将材料直接电离。目前,常用的阴极电弧镀膜技术是在阴极背后配置磁场,使蒸发后的离子获得霍尔(hall)加速效应,有利于离子增大能量轰击量体,采用这种电弧蒸发离化源镀膜,离化率较高。电弧点在靶面上高速运动,当靶面使用后,表面材料被消耗掉,靶面与磁场表面的距离发生改变;...
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