技术编号:3381613
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于薄膜制备领域,具体地说是一种用于制备非晶薄膜的电弧离子镀冷却装置。背景技术电弧离子镀沉积技术是一种在真空中将冷阴极自持弧光放电用于蒸发源的镀膜技术。真空系统通入氩气至1 IO-1Pa时,在阴极靶材与阳极真空室之间引发弧光放电并产生高密度的金属蒸气等离子体,靶材金属正离子在负电压电场加速作用下,沉积到基体表面成膜。由此可见,电弧离子镀沉积薄膜的形核与长大是由离子加速的方式来激励的,并且被电离的靶材金属正离子与气体正离子一起受到电场加速作用,不断...
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