技术编号：3382661
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种磁控溅射靶靶材消耗的监控管理装置[0001]本实用新型涉及真空镀膜，尤其涉及一种磁控溅射靶靶材消耗的监控管理装置。背景技术[0002]近年来，随着磁控溅射技术的不断发展，其在真空镀膜设备中得到了广泛的应用。 如图1所示的真空镀膜设备，真空箱体3内放置基片(玻璃)1、加热单元2、布气管4、溅射靶靶材5，箱体3外放置高强度磁铁6，真空镀膜原理为在一稳定的中高真空及中高温的环境下，在阴阳极间加一直流电压及溅射靶靶材上加一磁场，在真空箱体中通入适量的工艺气体(...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。