技术编号:3386174
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种真空光学镀膜机里使用的蒸发镀制各种光学薄膜的蒸发材料的结构。蒸发镀膜材料作为光学薄膜中的低折射率材料用在真空镀膜机里蒸发各种光学薄膜。如附图说明图1所示,现有技术中的蒸发镀膜材料均为粒状石英,放置在真空光学镀膜机真空室的蒸发坩锅里,在真空室里的电子枪发出电子束照射在粒状石英玻璃上,使之发热,当温度达到石英玻璃的熔点后,石英玻璃迅速熔化蒸发,蒸发的石英微粒子(SiO2)与其它高折射率材料反复蒸发镀制,使之可形成各种光学薄膜。使用上述粒状蒸发...
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