技术编号:3387881
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型公开ー种提高利用率的可拆卸的组合式靶材结构,广泛应用于薄膜太阳能电池低温沉积导电膜层,属于太阳能磁控溅射设备。背景技术硅基薄膜太阳能电池应用物理气相沉积PVD (PHYSICAL VAPOR DEPOSITION)技木,即磁控溅射镀膜技术,在基片上沉积硅基薄膜太阳能电池的背电极金属氧化物AZO导电薄膜层。常规的磁控溅射镀膜技木,通过在靶材背面放置磁极提供磁场,通过对靶材施加负高压,以靶材作为阴极,基片作为阳极,在靶材与基片之间形成电场。磁控溅射镀...
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