技术编号:3388439
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种化学气相沉积(CVD)设备,特别是关于一种低压化学气相沉积(LPCVD)设备或原子层沉积(ALD)设备。背景技术薄膜太阳能电池在弱光条件下仍可发电,其生产过程能耗低,具备大幅度降低原材料和制造成本的潜力。因此,目前市场对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长,而制造薄膜太阳能电池的技术和设备更成为近年来的研究热点。薄膜太阳能电池的制造过程中需要在衬底(如玻璃基板)上沉积一层透明导电薄膜以形成电极。低压化学气相沉积设备就是一种常用的薄膜太阳能电池透...
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